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发布：2024/4/30 10:07:25 来源：kaitezhang

从表中可以清楚的看到，硅烷偶联剂KH-55的效果比较适合钛酸钾晶须填充聚丙体系，它可以有效改善树脂和晶须之间的界面作用，使得晶须的增强作用得到更充分的发挥。从表3可以看出，用硅烷偶联剂对晶须进行表面的效果比较明显。对于钛酸钾晶须填充聚丙的体系KH-55总体效果较好，而KH-56体系比较适合尼龙66体系，表现在填充体系的拉伸强度提高12.85%，缺口冲击强度提高15.78%。由于界面结合的改善使得树脂在受力时，晶须可以承担一定的载荷，晶须在周围的基体中局部地抵抗应变，使得材料体现出较强的力学性能。

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这种称为环氧硅氧烷聚酯树脂(PES)的新材料，也使得新一代低成本芯片纳米压印光刻术成为可能。据悉该研究成果刊登在近期美国《真空科学与技术：B辑》上。伦斯勒理工学院的物理教授陆道明称，有了这种新材料，芯片商将能削减从生产到封装过程中的数个生产步骤，从而实现成本的降低。目前广泛采用的光刻是利用光与化学物质的混合，在硅的微小面积上产生复杂的微米与纳米级图案。作为此过程的一部分，称为重分布层的聚合物薄膜对器件的功效相当重要，它沉积到硅芯片上，以减缓信号传输延迟，并保护芯片免受环境差异与机械因素的影响。

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